[发明专利]一种光刻机晶片吸盘有效

专利信息
申请号: 201710760586.5 申请日: 2017-08-30
公开(公告)号: CN107422614B 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 李知存;陈跃东;范勤;王雄;聂明争;霍同乾;程俊 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 代理人: 刘杰
地址: 430080 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于微机电加工工艺技术领域,公开了一种光刻机晶片吸盘,包括:基座以及设置在所述基座上的吸盘以及限位卡槽;所述限位卡槽设置在所述吸盘周围,用于将光刻机晶片限制在所述吸盘正上方。本发明提供一种光刻机晶片吸盘,该晶片吸盘即适用于光刻圆形晶片,又能够光刻矩形晶片,可以使矩形晶片的重心与晶片吸盘基座的中心重和,有效防止晶片吸盘移动过程造成矩形晶片的移动,减小了光刻误差,提高了掩膜图案转移到晶片上的复制度,同时该晶片吸盘可以放置一定尺寸范围的圆形晶片,且该晶片吸盘结构简单,操作便利,便于加工制作。
搜索关键词: 一种 光刻 晶片 吸盘
【主权项】:
1.一种光刻机晶片吸盘,其特征在于,包括:基座以及设置在所述基座上的吸盘以及限位卡槽;所述限位卡槽设置在所述吸盘周围,用于将光刻机晶片限制在所述吸盘正上方;所述限位卡槽包括:定位柱以及限位挡板;所述定位柱固定在所述基座上;所述限位挡板可拆卸的固定在所述定位柱上;其中,所述限位挡板与所述定位柱开设可供晶片嵌入的水平卡槽;所述水平卡槽与所述吸盘平行。
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