[发明专利]光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置有效
| 申请号： | 201710665596.0 | 申请日： | 2017-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN107229088B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 王维;孟宪东;谭纪风;高健;陈小川;吕敬;董学 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B6/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置，该制作方法包括：形成光致聚合物膜层；对该光致聚合物膜层进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构。本发明提供的光学微结构的制作方法，其可以实现大尺寸产品的制备、跨尺度的光线微结构的分块制备，同时可以避免因膜层间贴合或填充造成的全息透镜中相位分布改变，而且具有较好的量产可行性和产品信赖性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 微结构 制作方法 组件 显示装置 | ||
【主权项】：
一种光学微结构的制作方法，其特征在于，包括：形成光致聚合物膜层；对所述光致聚合物膜层进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构。
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