[发明专利]一种二硒化钨薄片/氧化铟纳米线复合结构近红外光电探测器及其制备方法有效
申请号: | 201710631098.4 | 申请日: | 2017-07-28 |
公开(公告)号: | CN107706260B | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 郭楠;刘军库;贾怡;肖林 | 申请(专利权)人: | 中国空间技术研究院 |
主分类号: | H01L31/09 | 分类号: | H01L31/09;H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 张丽娜 |
地址: | 100194 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种二硒化钨薄片/氧化铟纳米线复合结构近红外光电探测器及其制备方法,该近红外光电探测器为低维材料复合结构近红外光电探测器,具体是指利用二硒化钨(WSe2)与氧化铟(In2O3)纳米线之间功函数的差异,在这两种材料界面处形成能带弯曲,近红外光激发WSe2中的载流子积累在界面处,所形成的局域电场对In2O3纳米线沟道电导率进行调控,同时通过外加偏压的施加使得器件工作在暗电流极低的耗尽区,提高近红外探测器的光响应率和探测率。 | ||
搜索关键词: | 一种 二硒化钨 薄片 氧化 纳米 复合 结构 红外 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种二硒化钨薄片/氧化铟纳米线复合结构近红外光电探测器,其特征在于:该近红外光电探测器包括Si/SiO2衬底、源电极、漏电极、氧化铟纳米线和二硒化钨薄片;所述的源电极、漏电极、氧化铟纳米线和二硒化钨薄片均位于Si/SiO2衬底上,氧化铟纳米线的一端与源电极相连,氧化铟纳米线的另一端与漏电极相连,二硒化钨薄片搭在氧化铟纳米线上,即二硒化钨薄片的中间部分位于氧化铟纳米线上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的