[发明专利]一种二硒化钨薄片/氧化铟纳米线复合结构近红外光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710631098.4 申请日: 2017-07-28
公开(公告)号: CN107706260B 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 郭楠;刘军库;贾怡;肖林 申请(专利权)人: 中国空间技术研究院
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张丽娜
地址: 100194 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种二硒化钨薄片/氧化铟纳米线复合结构近红外光电探测器及其制备方法,该近红外光电探测器为低维材料复合结构近红外光电探测器,具体是指利用二硒化钨(WSe2)与氧化铟(In2O3)纳米线之间功函数的差异,在这两种材料界面处形成能带弯曲,近红外光激发WSe2中的载流子积累在界面处,所形成的局域电场对In2O3纳米线沟道电导率进行调控,同时通过外加偏压的施加使得器件工作在暗电流极低的耗尽区,提高近红外探测器的光响应率和探测率。
搜索关键词: 一种 二硒化钨 薄片 氧化 纳米 复合 结构 红外 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种二硒化钨薄片/氧化铟纳米线复合结构近红外光电探测器,其特征在于:该近红外光电探测器包括Si/SiO2衬底、源电极、漏电极、氧化铟纳米线和二硒化钨薄片;所述的源电极、漏电极、氧化铟纳米线和二硒化钨薄片均位于Si/SiO2衬底上,氧化铟纳米线的一端与源电极相连,氧化铟纳米线的另一端与漏电极相连,二硒化钨薄片搭在氧化铟纳米线上,即二硒化钨薄片的中间部分位于氧化铟纳米线上。
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