[发明专利]一种两性离子化高强度耐污染正渗透膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710628679.2 申请日: 2017-07-28
公开(公告)号: CN109304101B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 曾志翔;朱丽静;王立平;宋海明;薛群基 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: B01D71/06 分类号: B01D71/06;B01D69/02;B01D67/00;B01D61/00;C02F1/44;C02F103/08
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹;王锋
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种两性离子化高强度耐污染正渗透膜及其制备方法。所述的制备方法包括:将两性离子单体、交联剂和引发剂加入聚合物溶液,加热使两性离子单体发生自由基聚合‑微交联反应,形成两性离子聚合物,得到制膜溶液,之后制备成膜,获得两性离子化高强度耐污染正渗透膜。本发明的两性离子化高强度耐污染正渗透膜的抗污染能力优异,正渗透通量大,力学强度高,同时其制备方法高效、快捷,具有广阔的工业化应用前景。
搜索关键词: 一种 两性 离子化 强度 污染 渗透 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种两性离子化高强度耐污染正渗透膜的制备方法,其特征在于包括:提供至少包含两性离子单体、交联剂、引发剂、聚合物和溶剂的混合反应体系;加热所述混合反应体系使两性离子单体发生自由基聚合‑微交联反应而形成两性离子聚合物,得到制膜溶液;将所述制膜溶液制备成膜,并在成膜过程中使所述两性离子聚合物通过表面偏析而修饰于膜表面以及在膜中形成半互穿网络结构,从而获得两性离子化高强度耐污染正渗透膜。
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