[发明专利]一种采用丝网印刷技术进行硅片涂源工艺

摘要

本发明提供一种采用丝网印刷技术进行硅片涂源工艺，包括以下步骤：硅片双面减薄：使用腐蚀液对硅片进行双面腐蚀，去除表面损伤层；扩散前处理：对减薄后的硅片依次进行碱处理、溢水清洗、酸清洗、溢水清洗、甩干；印刷扩散源：采用丝网印刷工艺对处理后的硅片一面印刷磷扩散源，另一面印刷硼扩散源或硼铝扩散源；叠片装舟：将硅片硼源面或硼铝源面与硼源面或硼铝源面相对，将磷源面与磷源面相对进行叠片，叠片后放入碳化硅舟中，在前后位置放置挡片。本发明的有益效果是使得在硅片上涂覆扩散源的工艺更加简单，能够实现硅片扩散源涂覆的自动化，节省劳动力，提高了扩散源涂覆的工作效率，且磷源和硼源在硅片上的涂覆一致性好，安全环保。

主权项

1.一种采用丝网印刷技术进行硅片涂源工艺，其特征在于：包括以下步骤：1)印刷扩散源：采用丝网印刷技术对扩散前处理后的硅片一面印刷磷扩散源，另一面印刷硼扩散源或硼铝扩散源。