[发明专利]片麻岩区圆形硐室光面爆破及岩爆分步解除方法

摘要

本发明涉及一种片麻岩区圆形硐室光面爆破及岩爆分步解除方法。本发明的目的是旨在解决深埋片麻岩隧洞(隧道、巷道)掘进过程中的光面爆破控制及岩爆问题。本发明型的技术方案是：在圆形硐室的开挖掌子面上、掌子面中心附近钻设若干爆破孔，爆破孔分布于以掌子面中心为原点的圆上及原点上，爆破孔孔深7m，全部深度范围装药；在圆形硐室的开挖掌子面上靠近其边界处钻设有若干光面爆破控制孔，光面爆破控制孔均匀分布于以掌子面中心为原点的圆上，光面爆破控制孔孔深10m，光面爆破控制孔内距离掌子面起0～1m、2～3m、4～5m和6～7m处装药，装药段长均为1m，爆破强度为0.04kg/T。本发明适用于水利水电工程、交通、矿山等地下工程。

主权项

1.一种片麻岩区圆形硐室光面爆破及岩爆分步解除方法，其特征在于：在圆形硐室(1)的开挖掌子面(8)上、掌子面中心附近钻设若干爆破孔，爆破孔分布于以掌子面中心为原点的圆上及原点上，爆破孔孔深7m，全部深度范围装药；在圆形硐室(1)的开挖掌子面(8)上靠近其边界处钻设有若干光面爆破控制孔(5)，光面爆破控制孔均匀分布于以掌子面中心为原点的圆上，光面爆破控制孔孔深10m，光面爆破控制孔内距离掌子面(8)起0～1m、2～3m、4～5m和6～7m处装药，装药段长均为1m，爆破强度为0.04kg/T；所述爆破孔有7个且分为爆破孔中孔(2)、爆破孔中上孔(3)和爆破孔中下孔(4)；其中爆破孔中孔(2)有3个，包括位于掌子面(8)中心的爆破孔，以及2个与掌子面中心爆破孔位于同一水平线上的爆破孔，爆破孔中孔水平布置；所述爆破孔中上孔(3)有2个，分布于爆破孔中孔上方，2个爆破孔中上孔位于同一水平线上，爆破孔中上孔指向硐室中心向下倾斜2～3度；所述爆破孔中下孔(4)有2个，分布于爆破孔中孔下方，2个爆破孔中下孔位于同一水平线上，爆破孔中下孔指向硐室中心向上倾斜2～3度；所述爆破孔和光面爆破控制孔(5)的起爆顺序如下：首先起爆三个爆破孔中孔(2)，间隔5秒后接着起爆两个爆破孔中上孔(3)，间隔10秒后起爆两个爆破孔中下孔(4)，间隔5秒后起爆光面爆破控制孔(5)；所述光面爆破控制孔(5)由内向外逐段进行爆破，间隔0.5秒。