[发明专利]一种成膜装置有效
| 申请号： | 201710611920.0 | 申请日： | 2017-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107686960B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 曹绪文 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种成膜装置，该成膜装置包括：掩膜，用于使待蒸镀材料在基板的表面形成预设图案的薄膜；支撑件，用于支撑所述基板；对位机构，用于对所述掩膜和所述基板进行对位；磁体，用于将所述掩膜吸附至所述基板的表面，以使所述掩膜与所述基板贴合；拉伸部件，用于拉伸所述基板，以使所述基板保持平整；其中所述拉伸部件具有夹持面，该夹持面为靠近所述基板侧的表面，所述夹持面与被夹持面之间倾斜，所述被夹持面为未被所述拉伸部件夹持时所述基板所在的平面。本发明的成膜装置，能够提高对位精度，从而提高产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其特征在于，包括/n掩膜，用于使待蒸镀材料在基板的表面形成预设图案的薄膜；/n支撑件，用于支撑所述基板；/n对位机构，用于对所述掩膜和所述基板进行对位；/n磁体，用于将所述掩膜吸附至所述基板的表面，以使所述掩膜与所述基板贴合；/n拉伸部件，用于拉伸所述基板，以使所述基板保持平整；其中所述拉伸部件具有夹持面，该夹持面为靠近所述基板侧的表面，所述夹持面与被夹持面之间倾斜，所述被夹持面为未被所述拉伸部件夹持时所述基板所在的平面。/n
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