[发明专利]一种自动换靶的反应电子束蒸发设备

摘要

本发明公开了一种自动换靶的反应电子束蒸发设备，包括真空镀膜腔、进入腔、出口腔和自动换靶装置，进入腔与出口腔分别位于真空镀膜腔的两端，进入腔远离真空镀膜腔的一侧设有第一阀门，与真空镀膜腔相连接的一侧设第二阀门；出口腔与真空镀膜腔相连接的一侧设有第三阀门，远离真空镀膜腔的一侧设有第四阀门，真空镀膜腔设有第一分子泵、第一机械泵和第一气阀，进入腔与出口腔共同连接有第二分子泵和第二机械泵；进入腔设有第二气阀，出口腔设有第三气阀；真空镀膜腔内包括电子束枪、等离子发辉器和镀膜料架，电子束枪设置在真空镀膜腔外且枪头穿过真空镀膜腔进入真空镀膜腔内，镀膜料架位于真空镀膜腔的上部。

主权项

1.一种自动换靶的反应电子束蒸发设备，包括真空镀膜腔、进入腔和出口腔，所述进入腔与出口腔分别位于真空镀膜腔的两端，其特征在于，所述进入腔远离真空镀膜腔的一侧设有第一阀门，与真空镀膜腔相连接的一侧设第二阀门；所述出口腔与真空镀膜腔相连接的一侧设有第三阀门，远离真空镀膜腔的一侧设有第四阀门，所述真空镀膜腔设有第一分子泵、第一机械泵和第一气阀，所述进入腔与出口腔共同连接有第二分子泵和第二机械泵；所述进入腔设有第二气阀，所述出口腔设有第三气阀；所述真空镀膜腔内包括电子束枪、等离子发辉器和镀膜料架，所述电子束枪设置在真空镀膜腔外且枪头穿过真空镀膜腔进入真空镀膜腔内，所述镀膜料架位于所述真空镀膜腔的上部；所述进入腔设有第二料架，所述出口腔设有第三料架，所述进入腔外设有第一料架，所述出口腔外设有第四料架；所述第一料架、第二料架、第三料架、第四料架和真空膜料架均由多个料杆组成，所述料杆上设有驱动机构，料杆通过驱动机构沿轴心自转，所述真空膜料架的中心留有镀膜区域，该自动换靶的反应电子束蒸发设备还包括自动换靶装置，所述自动换靶装置包括升降机构、位于真空镀膜腔内的靶容器、备用靶材腔、第二真空泵和控制单元，所述靶容器置于等离子发辉器内，所述备用靶材腔设置在所述真空镀膜腔外且位于所述靶容器的下方，所述备用靶材腔与所述真空镀膜腔相连接，且中间设有第五气阀以隔离或连通；所述升降机构贯穿所述备用靶材腔、真空镀膜腔与所述靶容器的底部相连接；所述升降机构用于在进行蒸镀工艺时将靶材实时根据靶材的消耗量向上移动和当消耗完一个靶材后将备用靶材腔中的靶材移动至真空镀膜腔内；所述备用靶材腔设有腔门，且所述备用靶材腔连接有第二真空泵和第四气阀；所述控制单元包括升降控制单元和真空控制单元；所述升降控制单元与所述升降机构相连接；所述真空控制单元与第三真空泵、第三机械泵和第四气阀相连接。