[发明专利]双模逐层测量系统

摘要

本发明涉及电子衍射仪，提供一种双模逐层测量系统，包括真空样品室，真空样品室内设置有样品台，还包括电子脉冲控制单元、缺陷调控光路以及处理单元，缺陷调控光路上设置有激光脉冲能量调节装置以及激光脉冲扫描装置，处理单元包括用于接收电子背散射花样的第一接收组件、用于接收衍射图像的第二接收组件以及分析接收后衍射图像与电子背散射花样以控制激光脉冲能量调节装置与激光脉冲扫描装置的控制中心。本发明的测量系统可对微纳制造过程原位实时无损测量，实现边生长、边检测，且通过对衍射图像以及背散射花样处理获得样品表面缺陷信息，并根据此信息反馈调节飞秒激光脉冲能量及扫描位置，进行缺陷的修复，实现边检测、边调控的目的。

主权项

1.一种双模逐层测量系统，包括真空样品室，所述真空样品室内设置有样品台，其特征在于：还包括用于向所述样品台的样品发射电子脉冲以产生衍射图像和电子背散射花样的电子脉冲控制单元、用于向所述样品台上样品的指定位置发射二倍频激光的缺陷调控光路以及用于分析处理衍射图像与电子背散射花样的处理单元，所述缺陷调控光路上设置有激光脉冲能量调节装置以及激光脉冲扫描装置，所述处理单元包括用于接收电子背散射花样的第一接收组件、用于接收衍射图像的第二接收组件以及分析接收的衍射图像与电子背散射花样以控制所述激光脉冲能量调节装置与所述激光脉冲扫描装置的控制中心，所述缺陷调控光路上设置有光程延时组件。/n