[发明专利]光罩修补装置、光罩修补方法及光罩修补液有效
申请号: | 201710559556.8 | 申请日: | 2017-07-11 |
公开(公告)号: | CN107315317B | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 宋江江 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种光罩修补装置,光罩修补方法及光罩修补液。所述光罩修补装置用于修补带有孔洞的光罩,所述光罩修补装置包括:修补液存储器、导管、电磁装置,所述修补液存储器用于存储光罩修补液,其中,所述光罩修补液包括电磁材料,所述电磁材料具有磁性且吸收紫外光,所述导管的一端连接所述修补液存储器,另一端开口,用于将所述修补液存储器中存储的光罩修补液导出,所述电磁装置用于提供高频交变电磁场,所述高频交变电磁场为高频电磁场且为交变电磁场,所述光罩修补液中的电磁材料在所述高频交变电磁场的作用下震荡运动,从而降低所述光罩修补液的粘度,以便所述光罩修补液从所述导管中流出。 | ||
搜索关键词: | 修补 装置 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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