[发明专利]多倍频栅条型周期栅阵制备方法有效
申请号: | 201710554696.6 | 申请日: | 2017-07-10 |
公开(公告)号: | CN107356997B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 赵成;陈磊;杨义军;曾祥华 | 申请(专利权)人: | 扬州大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 吴茂杰 |
地址: | 226009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种多倍频栅条型周期栅阵制备方法,包括如下步骤:(10)基准栅条获取:在基片上通过一次移动周期栅阵光刻掩膜版、二次曝光,剥离,得到基准组栅条;(20)重复栅条获取:在已得到基准组栅条或者已得到基准组栅条和部分重复组栅条的基片上,通过二次移动周期栅阵光刻掩膜版、二次曝光、剥离,得到一组重复组栅条;(30)栅条阵列获取:重复步骤(20)重复栅条获取,制备所需组数的重复组栅条,得到多倍频栅条型周期栅阵。本发明的多倍频栅条型周期栅阵制备方法,工艺技术及设备要求低、制造成本低。 | ||
搜索关键词: | 倍频 栅条型 周期 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种多倍频栅条型周期栅阵制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(10)基准栅条获取:在基片上通过一次移动周期栅阵光刻掩膜版、二次曝光、剥离,得到基准组栅条;(20)重复栅条获取:在已得到基准组栅条或者已得到基准组栅条和部分重复组栅条的基片上,通过二次移动周期栅阵光刻掩膜版、二次曝光、剥离,得到一组重复组栅条;(30)栅条阵列获取:重复步骤(20)重复栅条获取,制备所需组数的重复组栅条,得到多倍频栅条型周期栅阵。
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