[发明专利]一种抑制单晶基体再结晶的激光重熔热障涂层制备工艺在审

专利信息
申请号: 201710509497.3 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107326318A 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 王恪典;凡正杰;梅雪松;段文强;王汝家;张帅 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C23C4/18 分类号: C23C4/18;C23C4/134
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所61215 代理人: 贺建斌
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种抑制单晶基体再结晶的激光重熔热障涂层制备工艺,用激光在带热障涂层镍基单晶高温合金基体上进行激光重熔时,利用高频感应加热可以降低重熔涂层所需的激光能量阈值,并且能显著降低激光向基体内传导的热量,因此在预热辅助激光重熔热障涂层的过程中,一定范围内提高预热温度能显著地降低基体/粘结层处温度和热累积,这将有利于避免单晶镍基高温合金基体发生结构性能的变化。
搜索关键词: 一种 抑制 基体 再结晶 激光 热障 涂层 制备 工艺
【主权项】:
一种抑制单晶基体再结晶的激光重熔热障涂层制备工艺,其特征在于,包括下述步骤:1)将带热障涂层的单晶高温合金的工件(1)固定在导热套(5)上,导热套(5)放在感应线圈(4)内,并一起放置在隔热罩(6)内,隔热罩(6)通过夹具(8)固定在五轴运动工作台(11)上,五轴运动工作台(11)通过运动控制系统(16)和电脑(13)连接,高频感应器(7)经高频感应线圈(4)加热导热套(5),导热套(5)把热量传递给工件(1),电脑(13)控制激光器(14)的实现激光重熔参数的设置,激光器(14)中发射出的激光经透镜(10)聚焦后照射在陶瓷层(3)上,电脑(13)通过温度监控器(15)和红外温度测量仪(12)连接;2)在确保激光能全部重熔陶瓷涂层(3)的前提下,尽可能降低激光的输出功率,调节激光重熔参数:调节激光单脉冲能量为6J~7J,激光脉冲宽度为0.5ms~1ms,重复频率为40HZ~50HZ,激光光斑直径为3mm~4mm;3)根据工件(1)的尺寸在运动控制系统(16)中编程激光重熔路线,设定激光扫描速度为5~10mm/s,扫描方式为多道搭接法;4)调节高频感应器(7)的工作功率为20KW~25KW;5)待红外温度测量仪(12)温度达到0℃~800℃且稳定后,打开激光器(14),打开运动控制系统(16)使五轴运动工作台(11)按设定的编程路线运动,进行激光重熔。
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