[发明专利]一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法

摘要

本发明提供一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法，所述阵列基板母板的制备方法包括：在衬底基板上沉积第一薄膜，第一薄膜的边缘与衬底基板的边缘存在间隙，在第一薄膜上涂覆光刻胶，进行曝光、显影，以使光刻胶形成第一刻度图形，第一刻度图形与衬底基板的边缘平齐，且覆盖第一薄膜，从而可以通过第一刻度图形读取出第一薄膜的边缘与衬底基板的边缘的距离，相比于手动测量的方法，测量效率较高，且省时省力，而且，通过光刻工艺形成的第一刻度图形的精度为微米级，相比于现有毫米级的刻度尺，测量精度较高，测量偏差较小。

主权项

一种阵列基板母板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上沉积第一薄膜，所述第一薄膜的边缘与所述衬底基板的边缘存在间隙；在所述第一薄膜上涂覆光刻胶，对完成上述步骤的衬底基板进行曝光、显影，以使光刻胶形成第一刻度图形，所述第一刻度图形的一端与所述衬底基板的边缘平齐，且另一端覆盖所述第一薄膜。