[发明专利]反应腔室的下电极机构及反应腔室

摘要

本发明提供一种反应腔室的下电极机构及反应腔室，其包括用于承载被加工工件的基座以及采用绝缘材料制作的转接盘，该转接盘设置在基座的底部，且在转接盘中设置有多条走线通道，多条走线通道的输入端汇聚至转接盘的底面中心位置处，多条走线通道的输出端分散布置在转接盘的顶面，且与基座中的不同功能的导电部件接口的位置一一对应。本发明提供的反应腔室的下电极机构，其不仅可以提高不同功能的导电部件的走线一致性，从而可以提高不同腔室中的基座对地电容的一致性，而且还可以避免生成偏斜的电磁场，从而可以提高工艺均匀性。

主权项

1.一种反应腔室的下电极机构，包括用于承载被加工工件的基座，其特征在于，还包括采用绝缘材料制作的转接盘，所述转接盘设置在所述基座的底部，且在所述转接盘中设置有多条走线通道，多条所述走线通道的输入端汇聚至所述转接盘的底面中心位置处，多条所述走线通道的输出端分散布置在所述转接盘的顶面，且与所述基座中的不同功能的导电部件接口的位置一一对应。