[发明专利]带电粒子射束产生器中的高电压屏蔽和冷却有效
| 申请号： | 201710450157.8 | 申请日： | 2013-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN107359101B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | A.H.V.范维恩;W.H.厄尔巴努斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/09 | 分类号： | H01J37/09;H01J37/30;H01J37/317;B82Y10/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种带电粒子射束产生器。该产生器可以包括：高电压屏蔽配置(201)，用于屏蔽保护该屏蔽配置外面的部件，避免受到该屏蔽配置内的高电压影响；以及真空泵(220)，位于所述屏蔽配置外面用于调节所述屏蔽配置内的空间的压力。该产生器可以包括具有冷却配置(405a/407a‑407b/405b)的准直器系统，该冷却配置(405a/407a‑407b/405b)包括在该准直器系统的电极内部的冷却通道。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子 产生器 中的 电压 屏蔽 冷却 | ||
【主权项】：
1.一种带电粒子射束产生器，该带电粒子射束产生器包括：带电粒子源，用于产生带电粒子射束；准直器系统，包括用于准直所述带电粒子射束的电极；高电压屏蔽配置，用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的部件，以避免受到该高电压屏蔽配置内的高电压影响；以及至少一个真空泵，用于调节所述高电压屏蔽配置内的空间的压力，其中所述至少一个真空泵是所述高电压屏蔽配置外面的部件；其中所述准直器系统包括用于像差校正和/或用于向反向散射粒子提供斥力的另一电极，其中所述准直器系统包括在所述带电粒子射束的上游方向上介于所述准直器系统的所述另一电极与相邻电极中间的区域，其中所述高电压屏蔽配置位于该区域周围，并且其中所述至少一个真空泵紧挨着该区域并且直接紧挨着所述高电压屏蔽配置。
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