[发明专利]正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法及2,4-二氯苯氧基乙酸盐的负载方法有效
申请号: | 201710400160.9 | 申请日: | 2017-05-31 |
公开(公告)号: | CN107691437B | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 曹立冬;黄啟良;李凤敏;曹冲 | 申请(专利权)人: | 中国农业科学院植物保护研究所 |
主分类号: | A01N25/08 | 分类号: | A01N25/08;A01N39/04;A01P13/00 |
代理公司: | 北京冠榆知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11666 | 代理人: | 魏振柯 |
地址: | 100193 北京市海淀区圆*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法及2,4‑二氯苯氧基乙酸盐的负载方法,包括如下步骤(1‑1)将十六烷基三甲基溴化铵溶于水中,搅拌,加入氢氧化钠溶液,加热;(1‑2)向步骤(1‑1)得到的溶液中加入正硅酸乙酯,搅拌;(1‑3)将步骤(1‑2)中得到的混合溶液离心,将离心后得到的固体干燥;(1‑4)将步骤(1‑3)中得到的白色固体物煅烧,得到介孔二氧化硅材料;(1‑5)将步骤(1‑4)中得到的介孔二氧化硅分散于有机溶剂中,并向有机溶剂中加入有机盐,加热回流,离心后将所得固体干燥即得正电荷修饰介孔二氧化硅。本发明通过MSN表面季铵盐化,进行正电荷修饰,通过静电作用调控2,4‑D钠盐的负载和释放,同时降低土壤的淋溶,释放具有明显的环境因子(pH、温度和离子强度)敏感性。 | ||
搜索关键词: | 正电荷 修饰 二氧化硅 制备 方法 氯苯 乙酸 负载 | ||
【主权项】:
正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1‑1)将十六烷基三甲基溴化铵溶于水中,搅拌,加入氢氧化钠溶液,加热;(1‑2)向步骤(1‑1)得到的溶液中加入正硅酸乙酯,搅拌;(1‑3)将步骤(1‑2)中得到的混合溶液离心,将离心后得到的固体干燥;(1‑4)将步骤(1‑3)中得到的白色固体物煅烧,得到介孔二氧化硅材料;(1‑5)将步骤(1‑4)中得到的介孔二氧化硅分散于有机溶剂中,并向有机溶剂中加入有机盐,加热回流,离心后将所得固体干燥即得正电荷修饰介孔二氧化硅。
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