[发明专利]测量方法及电子设备在审

专利信息
申请号: 201710373104.0 申请日: 2017-05-24
公开(公告)号: CN107314761A 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 洪帆;罗绿梅;李玲;刘雄 申请(专利权)人: 上海与德科技有限公司
主分类号: G01C11/04 分类号: G01C11/04
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙)31260 代理人: 胡丽莉
地址: 201506 上海市金*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及测量技术领域,公开了一种测量方法及电子设备。该方法包括获取拍摄位置处的电子设备的摄像头与参考平面之间的第一距离h;其中,参考平面为同时垂直于电子设备以及被测物,且与被测物相接触的平面;在拍摄位置拍摄得到被测物的图像;在图像中确定被测物上与待测量的第二距离H对应的起始线位置、终止线位置以及被测物与参考平面的交线位置;计算得到起始线和终止线之间的第一像素高度a,以及电子设备的显示屏幕的中心线和交线之间的第二像素高度b;根据第一距离h、第一像素高度a以及第二像素高度b计算得到第二距离H。本发明实施方式从而可以方便、精确地实现大范围的尺寸测量。
搜索关键词: 测量方法 电子设备
【主权项】:
一种测量方法,应用于电子设备,其特征在于,所述测量方法包括:获取拍摄位置处的电子设备的摄像头与参考平面之间的第一距离h;其中,所述参考平面为同时垂直于所述电子设备以及被测物,且与所述被测物相接触的平面;在所述拍摄位置拍摄得到所述被测物的图像;在所述图像中确定所述被测物上与待测量的第二距离H对应的起始线位置、终止线位置以及所述被测物与所述参考平面的交线位置;计算得到所述起始线和所述终止线之间的第一像素高度a,以及所述电子设备的显示屏幕的中心线和所述交线之间的第二像素高度b;根据所述第一距离h、所述第一像素高度a以及所述第二像素高度b计算得到所述第二距离H。
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