[发明专利]一种将酸、碱废蚀刻液混搭回收铜的方法在审
| 申请号： | 201710365984.7 | 申请日： | 2017-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN107313069A | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 刘志强;朱薇;曹洪杨;张魁芳;郭秋松;高远 | 申请（专利权）人： | 广东省稀有金属研究所 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12 |
| 代理公司： | 广东世纪专利事务所44216 | 代理人： | 千知化 |
| 地址： | 510651 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种将酸、碱废蚀刻液混搭回收铜的方法。所述废蚀刻液为印制电路板蚀刻工序过程中蚀刻了铜的酸性废蚀刻液和碱性废蚀刻液，其步骤如下(1)将Lix®系列萃取剂溶液碱性废蚀刻液酸性废蚀刻液按体积比2~2510.1~1混合萃取铜；(2)用稀硫酸溶液洗涤步骤(1)所得的负载有机相；(3)用含硫酸和铜离子的硫酸铜溶液反萃取步骤(2)洗涤后的负载有机相，反萃取后的有机相返回步骤(1)重复使用，水相为硫酸铜溶液；(4)电沉积步骤(3)所得硫酸铜溶液，得到电沉积铜，电沉积铜后的硫酸铜溶液返回步骤(3)重复使用。本发明的将酸、碱废蚀刻液混搭回收铜的方法，能将铜从酸、碱性废蚀刻液中选择性分离，工艺简单，分离效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 液混搭 回收 方法 | ||
【主权项】：
一种将酸、碱废蚀刻液混搭回收铜的方法，所述废蚀刻液为印制电路板蚀刻工序过程中蚀刻了铜的废液，酸性废蚀刻液的H+浓度为0.01~2.6mol/L，铜离子30~160g/L及氯离子；碱性废蚀刻液的pH为7.5~9.5，铜离子5~160g/L，游离NH3及氯离子；其特征是步骤如下：(1)将Lix®系列萃取剂溶液:碱性废蚀刻液:酸性废蚀刻液按体积比2~25:1:0.1~1混合萃取铜；(2)按体积比0.1~10:1，用H+浓度为0.001~1.5mol/L的稀硫酸溶液洗涤步骤(1)所得的负载有机相；(3)按体积比2~8:1，用含硫酸140~240g/L和铜离子8~40g/L的硫酸铜溶液反萃取步骤(2)洗涤后的负载有机相，反萃取后的有机相返回步骤(1)重复使用，水相为硫酸铜溶液；(4)在电流密度100~500A/m2下电沉积步骤(3)所得硫酸铜溶液，得到电沉积铜，电沉积铜后的硫酸铜溶液返回步骤(3)重复使用。
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