[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201710352700.0 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN107256856B 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 秦志康;斋藤隆幸;堀部裕史 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/535 分类号: H01L23/535;H01L21/60;H01L23/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 高培培;车文
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供半导体装置。半导体装置具备:半导体芯片,具有配置有第1金属结构及第2金属结构的主面,上述第2金属结构与上述第1金属结构相邻地配置;第1金属线,与上述半导体芯片的上述第1金属结构电连接;第2金属线,与上述半导体芯片的上述第2金属结构电连接;及密封体,对上述半导体芯片、上述第1金属线及上述第2金属线进行密封,其中,上述第2金属结构配置于配置上述第1金属结构的层中,在上述第1金属结构与上述第2金属结构之间形成有绝缘膜,在上述第1金属结构中,在俯视时,沿着上述第1金属结构的各边连续地形成有第1槽,并且在上述第2金属结构中,在俯视时,沿着上述第2金属结构的各边连续地形成有第2槽。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,具备:半导体芯片,具有配置有第1金属结构及第2金属结构的主面,上述第2金属结构与上述第1金属结构相邻地配置;第1金属线,与上述半导体芯片的上述第1金属结构电连接;第2金属线,与上述半导体芯片的上述第2金属结构电连接;及密封体,对上述半导体芯片、上述第1金属线及上述第2金属线进行密封,其中,上述第2金属结构配置于配置上述第1金属结构的层中,在上述第1金属结构与上述第2金属结构之间形成有绝缘膜,在上述第1金属结构中,在俯视时,沿着上述第1金属结构的各边连续地形成有第1槽,并且在上述第2金属结构中,在俯视时,沿着上述第2金属结构的各边连续地形成有第2槽。
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