[发明专利]一种改善熔体抽拉非晶微丝巨磁阻抗效应的调制方法有效

专利信息
申请号: 201710346423.2 申请日: 2017-05-17
公开(公告)号: CN107254709A 公开(公告)日: 2017-10-17
发明(设计)人: 陈东明;孙剑飞;王桂强;吴志颖 申请(专利权)人: 渤海大学
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16
代理公司: 锦州辽西专利事务所(普通合伙)21225 代理人: 王佳佳
地址: 121000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种改善熔体抽拉非晶微丝巨磁阻抗效应的调制方法,该方法是对熔体抽拉非晶微丝进行电解抛光,工艺参数为:阴极电流密度为100A/dm2~150A/dm2,电解抛光时间为360s~600s,电解液温度为45℃,对处理后的非晶微丝进行磁阻抗输出稳定性测试。该方法工艺简单,成本低,可操作性强,效率高等优点,可明显改善熔体抽拉非晶微丝的巨磁阻抗特性,它解决了现有调制工艺复杂产品阻抗值小的特点,并实现了对丝材的表面圆化处理,改善了熔体抽拉非晶微丝的截面圆整度与表面粗糙度,尤其适用于对弱磁场探测等具有高灵敏度的传感器使用。
搜索关键词: 一种 改善 熔体抽拉非晶微丝巨 磁阻 效应 调制 方法
【主权项】:
一种改善熔体抽拉非晶微丝巨磁阻抗效应的调制方法,其特征是:具体步骤如下:(1)选取直径35μm,长度为22mm的熔体抽拉Co68.15Fe4.35Si12.25B13.75Nb1Cu0.5非晶微丝,将所述非晶微丝一端固定于平口铜质夹具,另一端浸入电解液中进行电解抛光处理,其中,阳极材料为所述非晶微丝,阴极材料为99.99%纯铜片,电流密度为100A/dm2~150A/dm2,电解抛光时间为360s~600s,电解液温度为45℃;(2)将处理后的非晶微丝在零磁屏蔽空间内进行磁阻抗性能测试,即完成一种改善熔体抽拉非晶微丝巨磁阻抗效应的调制方法。
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