[发明专利]一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 201710334987.4 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN107129762A | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | 倪自丰;滕康;陈国美;白亚雯 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 | 代理人： | 殷红梅,张仕婷 |
| 地址： | 214122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法，属于化学机械抛光技术领域。其包覆型氧化硅/氧化铈复合磨粒1%～10%、氧化剂为0.1%～10%、分散剂为0.1%～10%；通过pH调节剂调节pH为2～6，得到碳化硅化学机械抛光用的抛光液。本发明操作方法简单、合理，易于生产，加入分散剂，使得抛光悬浮液分散性好，避免了磨粒的团聚现象，同时采用均相沉淀法制备包覆型氧化硅/氧化铈核壳结构复合磨粒，提高了包覆效果，加入高锰酸钾氧化剂，使得抛光液的抛光效果更加良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 化学 机械抛光 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液，其特征是配方比例按质量百分比计如下：包覆型氧化硅/氧化铈复合磨粒1%～10%、氧化剂为0.1%～10%、分散剂为0.1%～10%；通过pH调节剂调节pH为2～6。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江南大学，未经江南大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710334987.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法
- 下一篇：一种复合陶瓷颗粒胶及其制备方法
