[发明专利]低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用

摘要

本发明属于玻璃技术领域，具体公开一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃。该低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板，以及包括自所述玻璃基板一表面向外依次沉积的第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层及第三电介质层。本发明获得的低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃，镀膜层与玻璃基板结合力强，镀膜层致密、均匀，膜层抗划伤能力强，外观呈现低反低透状，不仅满足了各大城市对光污染的要求，还具有很好的外观效果，满足人们对玻璃颜色的需求，而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。

主权项

一种低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板，以及包括自所述玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质层、反射层、第二电介质层、第一阻挡层、红外线反射层、第二阻挡层及第三电介质层；所述第一电介质层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiNxOy膜层、ZnOx膜层或ZnAlOx膜层中的任一层或任意两层；所述反射层为NbOx膜层、NbNx膜层、NiCr膜层、NiCrOx膜层、NiCrNx膜层或CrNx膜层中的任一层；所述第二电介质层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiNxOy膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、SnOx膜层、ZnSnOx膜层或AZO膜层中的任一层或任意两层；所述第一阻挡层、第二阻挡层为NiCr膜层、NiCrOx膜层、CrNx膜层中的任一层；所述红外线反射层为Ag膜层；所述第三电介质层为SiNx膜层、SiOx膜层、SiNxOy膜层或TiOx膜层中的任一层或任意两层。