[发明专利]静态随机存储单元、静态随机存储器及其存取方法在审

专利信息
申请号: 201710304827.5 申请日: 2017-05-03
公开(公告)号: CN108806741A 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 王楠 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412;G11C11/417
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种静态随机存储单元,包括两组晶体管,第一组晶体管的第一上拉晶体管、第一下拉晶体管以及第一通过栅晶体管各自包括的鳍结构的数量之比与第二组晶体管的第二上拉晶体管、第二下拉晶体管以及第二通过栅晶体管各自包括的鳍结构的数量之比不同;所述第一通过栅晶体管的源极和漏极中的一个电性连接第一位线,所述第二通过栅晶体管的源极和漏极中的一个电性连接第二位线。将这种非对称性设计的静态随机存储单元应用于静态随机存储器中,有利于静态随机存储器的存取,提高静态随机存储器的性能。
搜索关键词: 晶体管 静态随机存储器 静态随机存储单元 上拉晶体管 下拉晶体管 电性连接 组晶体管 鳍结构 漏极 位线 源极 存取 非对称性 两组 应用
【主权项】:
1.一种静态随机存储单元,其特征在于,包括两组晶体管,第一组晶体管包括第一上拉晶体管、第一下拉晶体管以及第一通过栅晶体管,第二组晶体管包括第二上拉晶体管、第二下拉晶体管以及第二通过栅晶体管;其中,第一上拉晶体管、第一下拉晶体管以及第一通过栅晶体管各自包括的鳍结构的数量之比与第二上拉晶体管、第二下拉晶体管以及第二通过栅晶体管各自包括的鳍结构的数量之比不同;所述第一通过栅晶体管的源极和漏极中的一个电性连接第一位线,所述第二通过栅晶体管的源极和漏极中的一个电性连接第二位线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710304827.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top