[发明专利]化学气相沉积工艺腔室及其清洗终点监测方法

摘要

本发明提供一种化学气相沉积工艺腔室及其清洗终点监测方法，通过在化学气相沉积工艺腔室的四周和底部的内壁上分别内嵌一个石英晶震片，将石英晶震片的电极镀膜层与化学气相沉积工艺腔室的内部连通；频率检测器用以检测石英晶震片的频率，并将频率检测器所测得的频率上传到控制器，所述控制器根据频率监测器所测得的频率变化实时监测化学气相沉积工艺腔室的内壁堆积膜层的厚度的变化以判断清洗终点。利用本发明对清洗终点进行监测，所得结果准确无误，保证了化学气相沉积工艺腔室的清洁度和产品良率。

主权项

1.一种化学气相沉积工艺腔室，其特征在于，所述化学气相沉积工艺腔室的四周和底部的内壁上分别内嵌一个石英晶震片，顶部的内壁上设有工艺气体的出口位置，没有石英晶震片；所述石英晶震片均位于其所在内壁的正中间，包括电极镀膜层，所述电极镀膜层与化学气相沉积工艺腔室的内部连通，在所述电极镀膜层上形成堆积膜层，所述石英晶震片的频率随着堆积膜层的厚度的变化而变化；频率监测器，所述频率监测器与石英晶震片连接，利用所述频率监 测器检测石英晶震片的频率；控制器，所述控制器与频率监测器相连，频率监测器所测得的频率值上传到控制器，所述控制器根据频率监测器所测得的频率变化实时监测化学气相沉积工艺腔室的内壁堆积膜层厚度的变化以判断清洗终点时间。