[发明专利]一种机械抛光工艺在审
| 申请号： | 201710260017.4 | 申请日： | 2017-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN107116400A | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 武行峰 | 申请（专利权）人： | 合肥羿振电力设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09G1/02;C23G1/14;C23G1/04;C23G1/24;C23C22/06 |
| 代理公司： | 合肥道正企智知识产权代理有限公司34130 | 代理人： | 张浩 |
| 地址： | 230000 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供的一种机械抛光工艺，包括机械抛光、碱洗、酸洗、水洗和干燥等步骤，利用抛光装置对待抛光样品进行机械抛光，形成抛光层，采用碱性溶液的清洗抛光层，再采用酸性的缓冲剂去除抛光层表面的残留物层,在去除残留物层之后，形成覆盖抛光层的钝化层，然后，通过喷嘴喷淋超纯水清洗抛光层，最后，对水洗后的抛光层进行干燥处理。本发明具有工艺简单、适合工业化生产的优势，抛光效率高，并且，抛光层表面的平整度高，长期稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机械抛光 工艺 | ||
【主权项】：
一种机械抛光工艺，其特征在于，包括机械抛光、碱洗、酸洗、水洗和干燥等步骤，具体工艺步骤如下：（1）、机械抛光：利用抛光装置对待抛光样品进行机械抛光，形成抛光层；（2）、碱洗：对上述抛光层采用碱性溶液的清洗；（3）、酸洗：再采用酸性的缓冲剂去除抛光层表面的残留物层,在去除残留物层之后，形成覆盖抛光层的钝化层；（4）、水洗：通过喷嘴喷淋超纯水清洗抛光层；（5）、干燥：对水洗后的抛光层进行干燥处理。
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