[发明专利]一种双面对准成形裸眼三维显示薄膜器件的方法在审
申请号: | 201710219880.5 | 申请日: | 2017-04-06 |
公开(公告)号: | CN106842815A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 曹阿秀;史立芳;邓启凌;张满;庞辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/20;G02B27/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面对准成形裸眼三维显示薄膜器件的方法,涉及微细加工,图像显示等领域。该方法主要步骤为(1)实现成像结构柔性压印模板的制备;(2)根据三维显示薄膜器件要求选择基材;(3)在基材表面旋涂一层压印胶,将压印模板上的结构信息传递到压印胶上;(4)在基材另一侧制备一层有色材料;(5)在有色材料上旋涂光刻胶,将携带有图案信息的掩模板上的对准标记与压印胶结构上的标记双面对准曝光,利用掩模板对光刻胶进行曝光,通过显影、坚膜工艺获得光刻胶图案层;(6)最后采用刻蚀方式,将光刻胶上的图案层刻蚀传递到有色材料层,形成一体化的三维显示薄膜器件。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 对准 成形 裸眼 三维 显示 薄膜 器件 方法 | ||
【主权项】:
一种双面对准成形裸眼三维显示薄膜器件的方法,其特征在于包含以下步骤:步骤(1)实现成像结构柔性压印模板的制备;步骤(2)根据三维显示薄膜器件要求选择基材;步骤(3)在基材表面旋涂一层压印胶,将压印模板上的结构信息传递到压印胶上;步骤(4)在基材另一侧制备一层有色材料;步骤(5)在有色材料上旋涂光刻胶,将携带有图案信息的掩模板上的对准标记与压印胶结构上的标记双面对准曝光,利用掩模板对光刻胶进行曝光,通过显影、坚膜工艺获得光刻胶图案层;步骤(6)最后采用刻蚀方式,将光刻胶上的图案层刻蚀传递到有色材料层,形成一体化的三维显示薄膜器件。
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