[发明专利]光学构件及其制造方法有效
| 申请号： | 201710167451.8 | 申请日： | 2017-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN107229086B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 寺本洋二 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B1/118;G02B1/10 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了光学构件及其制造方法。该光学构件包括光透射基板，该光透射基板具有包括光学有效区域和光学无效区域的表面，光学有效区域和光学无效区域彼此相邻，光学有效区域和光学无效区域在其边界上形成不小于45度且不大于90度的角度。光学构件具有纹理化结构，该纹理化结构具有不大于使用波长的面内尺寸，该结构连续形成在沿着光学有效区域和光学无效区域的边界延伸的边界区域中，并且遮光膜形成在基板的表面上的光学无效区域的包括至少边界区域在内的区域中。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 构件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学构件，其特征在于，包括：/n光透射基板，具有包括光学有效区域和光学无效区域的表面；所述光学有效区域和所述光学无效区域彼此相邻；/n其中，所述表面是弯曲的，所述弯曲的角度不小于45度且不大于90度，/n其中，所述光学无效区域包括沿着所述光学有效区域和所述光学无效区域之间的边界延伸的边界区域，以及/n其中，遮光膜形成在(1)精细凹凸结构上，所述精细凹凸结构形成在(a)基板或(b)形成在基板上的中间层上的边界区域中，并且所述遮光膜形成在(2)除了所述边界区域以外的光学无效区域中的基板或中间层上。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710167451.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种裂缝感应测井响应模拟装置
- 下一篇：偏光片、显示面板及显示器
