[发明专利]一种光栅微透镜层级结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201710149037.4 | 申请日： | 2017-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN106932843B | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 周雷;毛安军;林毅;胡光 | 申请（专利权）人： | 淮阴工学院 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 张华蒙 |
| 地址： | 223003 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光栅微透镜层级结构，属于微纳结构技术领域，包括基底，在基底上设有微透镜阵列，在基底和微透镜阵列的表面上均设有一维周期性光栅；基底、一维周期性光栅和微透镜阵列材质相同；本发明还公开了光栅微透镜层级结构的制备方法；本发明的一种光栅微透镜层级结构，采用了丝素蛋白作为保护层，彻底避免第二次热压印对第一次热压印结构造成的损伤，能高效制备微纳层级结构，其中，丝素蛋白牺牲层提取自蚕茧，绿色环保，压印性能稳定性高、成本低廉，适合批量化工业生产；本发明的制备方法，光栅和微透镜阵列模板可由本领域传统的业已成熟的工艺制备，方法灵活多样，具备很好的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 透镜 层级 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光栅微透镜层级结构的制备方法，其特征在于：该光栅微透镜层级结构包括基底(1)，在所述的基底(1)上设有微透镜阵列(3)，在基底(1)和微透镜阵列(3)的表面上均设有一维周期性光栅(2)；所述的基底(1)、一维周期性光栅(2)和微透镜阵列(3)材质相同；所述的一种光栅微透镜层级结构的制备方法，包括如下步骤：S1、在基底(1)上热压印制备一维周期性光栅(2)；S2、在制备的一维周期性光栅(2)上涂布丝素蛋白保护牺牲层；S3、在涂布丝素蛋白保护牺牲层的一维周期性光栅(2)上热压印微透镜阵列(3)；S4、水洗除去丝素蛋白保护牺牲层，形成光栅微透镜层级结构。
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