[发明专利]一种可提高耐压的局部非平衡超结结构有效

专利信息
申请号: 201710138159.3 申请日: 2017-03-09
公开(公告)号: CN106684120B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 王晓鲲;杜少杰;陈延湖 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 张勇
地址: 250100 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种可提高耐压的局部非平衡超结结构,属于功率半导体器件技术领域,该超结结构包括若干P型柱区和若干N型外延区,所述P型柱区和所述N型外延区交替分布;所述P型柱区和所述N型外延区的一端面与P型掺杂的阳极相连,所述P型柱区和所述N型外延区的另一端面与N型掺杂的阴极相连,所述P型柱区和所述M型外延区均分为两个部分区域;靠近P型掺杂的阳极的P型柱区的一半部分掺杂浓度高于P型柱区的另一半部分,靠近N型掺杂的阴极的N型外延区的一半部分掺杂浓度高于N型外延区的另一半部分。本发明的有益效果为可以增大超结的耐压性能。
搜索关键词: 一种 提高 耐压 局部 平衡 结构
【主权项】:
一种可提高耐压的局部非平衡超结结构,其特征是:该超结结构包括若干P型柱区和若干N型外延区,所述P型柱区和所述N型外延区交替分布;所述P型柱区和所述N型外延区的一端面与P型掺杂的阳极相连,所述P型柱区和所述N型外延区的另一端面与N型掺杂的阴极相连,所述P型柱区和所述M型外延区均分为两个部分区域;靠近P型掺杂的阳极的P型柱区的一半部分掺杂浓度高于P型柱区的另一半部分,靠近N型掺杂的阴极的N型外延区的一半部分掺杂浓度高于N型外延区的另一半部分。
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