[发明专利]一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法在审

专利信息
申请号: 201710131681.9 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN106912285A 公开(公告)日: 2017-07-04
发明(设计)人: 杜晓云;张秀;晋洁琼;郭金 申请(专利权)人: 商都县科技特派员工作站
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 013400 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明公开了一种沟畦以及膜下滴灌暗沟栽培方法。本发明沟畦为垄、沟相间的畦,垄上铺有滴灌带,垄上覆盖地膜,且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟,垄上定植作物。本发明方法包括以下步骤在种植作物时,将平整好的定植地做成垄、沟相间的畦;在高垄上铺上滴灌带,将两垄和一条垄沟用地膜盖上,使地膜下面形成一条暗沟;将作物定植在被地膜盖上的两个高垄上,形成两高垄定植间隔一条膜下暗沟。本发明具有节水、节肥、节农药、节地、保土、保肥、增温、调温等优点,有效提高作物的品质、产量。
搜索关键词: 一种 以及 滴灌 暗沟 栽培 方法
【主权项】:
一种沟畦,其特征在于,该沟畦为垄、沟相间的畦,垄上铺有滴灌带,垄上覆盖地膜,且两垄之间的垄沟在地膜下形成一条暗沟,垄上定植作物。
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