[发明专利]发光元件在审
申请号: | 201710130811.7 | 申请日: | 2017-03-07 |
公开(公告)号: | CN107171180A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 徐子杰;黄意雯;林羿宏;吕志强 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01S5/125 | 分类号: | H01S5/125;H01L33/14;H01L33/10;H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种发光元件。发光元件可发出一辐射且包含一基板;一位于基板上的外延结构,外延结构依序包含一第一分布布拉格反射镜(distributed Bragg reflector,DBR)、一发光叠层、一第二分布布拉格反射镜以及一接触层;一电极;一介于接触层以及电极之间的电流阻挡层;一形成于电流阻挡层中的第一开口;以及一形成于电极中以及位于第一开口之中的第二开口,其中发光元件于第二分布布拉格反射镜叠层之中,缺乏一氧化层以及缺乏一离子注入层。 | ||
搜索关键词: | 发光 元件 | ||
【主权项】:
一种发光元件,其可发出一辐射,包含︰基板;位于该基板上的外延结构,其依序包含第一分布布拉格反射镜(DBR)叠层、发光叠层、第二分布布拉格反射镜叠层和接触层;电极;位于该接触层以及该电极之间的电流阻挡层;第一开口,形成在该电流阻挡层之中;第二开口,形成在该电极中且位于该第一开口内;其中该电极的一部分填入该第一开口中且接触该接触层,且该发光元件于该第二分布布拉格反射镜叠层中,缺乏一氧化层以及缺乏一离子注入层。
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