[发明专利]电光晶体通光面法线与Z轴偏离角的测量装置及其测量方法有效
申请号: | 201710097530.6 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN106918309B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 刘世杰;张志刚;鲁棋;邵建达;周游;倪开灶;徐天柱;马啸 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01B11/26 | 分类号: | G01B11/26 |
代理公司: | 31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 张宁展<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 201800 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种电光晶体通光面法线与Z轴偏离角的测量装置及其测量方法,该测量装置包括激光器、第一透镜、空间滤波器、第二透镜、起偏器、第三透镜、分光镜、数字光电内调焦自准直仪、第四透镜、检偏器、成像透镜、探测器和计算机处理系统。本发明利用锥光干涉原理,实现了待测电光晶体非接触式无损检测,保障了测量过程中不引入待测电光晶体表面划痕,并且适用于大口径电光晶体检测,另外本发明采用数字光电内调焦自准直仪标定检测光束光轴方向,保障了检测光束垂直入射待测电光晶体,具有测量精度高,测量重复性好的优点,具有很大应用前景。 | ||
搜索关键词: | 电光 晶体 光面 法线 偏离 测量 装置 及其 测量方法 | ||
【主权项】:
1.一种采用电光晶体通光面法线与Z轴偏离角的测量装置测量电光晶体的通光面法线与Z轴偏离角的方法,该测量装置包含:激光器(1)、第一透镜(2)、空间滤波器(3)、第二透镜(4)、起偏器(5)、第三透镜(6)、待测电光晶体(7)、分光镜(8)、数字光电内调焦自准直仪(9)、第四透镜(10)、检偏器(11)、成像透镜(12)、探测器(13)和计算机处理系统(14);沿所述的激光器(1)出射的激光方向依次是所述的第一透镜(2)、空间滤波器(3)、第二透镜(4)、起偏器(5)、第三透镜(6)和分光镜(8);输入的激光经所述的分光镜(8)分为反射光和透射光,在所述的反射光方向设置所述的数字光电内调焦自准直仪(9);沿所述的透射光方向依次是所述的第四透镜(10)、检偏器(11)、成像透镜(12)和探测器(13),所述的探测器(13)的输出端与计算机处理系统(14)的输入端相连,所述的起偏器(5)和检偏器(11)的偏振方向相互垂直,所述的第三透镜(6)和第四透镜(10)严格共轭;其特征在于,该方法包括以下步骤:/nA)先不放入待测电光晶体(7),打开激光器(1),调节所述的数字光电内调焦自准直仪(9)的焦距,使激光经所述的分光镜(8)的反射光到达所述的数字光电内调焦自准直仪(9)的成像系统时光斑尽可能小;/nB)调整所述的数字光电内调焦自准直仪(9),使光斑位于数字光电内调焦自准直仪(9)的中心位置;/nC)关闭所述的激光器(1),将所述的待测电光晶体(7)的通光面置于所述的第三透镜(6)和第四透镜(10)的公共焦平面,调节所述的数字光电内调焦自准直仪(9)的焦距使数字光电内调焦自准直仪(9)发出光束为平行光,调整待测电光晶体(7)的姿态,使待测电光晶体(7)表面反射的光斑位于所述的数字光电内调焦自准直仪(9)的成像系统的中心位置;/nD)关闭所述的数字光电内调焦自准直仪(9)的光源,打开所述的激光器(1),计算机处理系统(14)通过所述的探测器(13)采集锥光干涉图,记录光轴出露点的位置;/nE)旋转所述的待测电光晶体(7)一定角度,重复上述步骤A、B、C、D再次记录出光轴出露点的位置;/nF)多次重复E步骤,完成多次测量,得到多组光轴出露点位置,利用最小二乘法拟合出光轴出露点的轨迹为圆形,该圆形的圆心位置坐标即为待测电光晶体(7)表面法线对应位置的坐标x0,y0;/nG)计算待测电光晶体7的Z轴偏离角的方法为:假设光轴出露点的坐标为x1,y1,待测电光晶体(7)的表面法线对应的位置坐标为x0,y0,第三透镜(6)焦距为f,第三透镜(6)处的光束口径为D,所述的探测器(13)上光斑直径对应的像素数为N;/n系统产生的锥光的锥角θ为:θ=2arctan(D/2f),/n每个像素对应的角度大小,即角度分辨率Δθ为:/nΔθ=θ/N=2arctan(D/2f)/N≈D/Nf,/n待测电光晶体(7)的通光面法线与Z轴偏离角α为:/n /n
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