[发明专利]基于CH3NH3PbI3材料的P型双向HHET器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710074139.4 申请日: 2017-02-10
公开(公告)号: CN106876489B 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 贾仁需;刘银涛;汪钰成;庞体强;张玉明 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0264;H01L31/18
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710071 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于CH3NH3PbI3材料的P型双向HHET器件及其制备方法。该方法包括:在选取的衬底材料表面制作FTO导电玻璃;在所述FTO导电玻璃表面制作第一光吸收层;在所述第一光吸收层表面制作第一空穴传输层;在所述第一空穴传输层表面制作源漏电极;在整个衬底表面制作第二空穴传输层;在所述第二空穴传输层表面制备第二光吸收层;在所述第二光吸收层表面制作栅电极,最终形成所述双向HHET器件。本发明通过采用对称的光吸收层,能吸收更多的光产生光生载流子,并采用在透明的蓝宝石生长透明的导电玻璃作为底部栅电极,能实现上下光照都能照射到光吸收层,且采用由CH3NH3PbI3向沟道提供大量的空穴,提高迁移率高,增强传输特性和增加光电转换效率。
搜索关键词: 基于 ch3nh3pbi3 材料 双向 hhet 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于CH3NH3PbI3材料的P型双向高空穴迁移率晶体管器件的制备方法,其特征在于,包括:在选取的衬底材料表面制作FTO导电玻璃;在所述FTO导电玻璃表面制作第一光吸收层;在所述第一光吸收层表面制作第一空穴传输层;在所述第一空穴传输层表面制作源漏电极;在整个衬底表面制作第二空穴传输层;在所述第二空穴传输层表面制备第二光吸收层;在所述第二光吸收层表面制作栅电极,最终形成所述双向高空穴迁移率晶体管器件。
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