[发明专利]一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201710025909.6 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN106893127B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 徐瑞璋;向爱双;丁玲;张磊 | 申请（专利权）人： | 武汉保丽量彩科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/048 | 分类号： | C08J7/048;C09D129/04;C09D123/06;C09D169/00;C09D133/12;C09D125/06;C08L67/02;C08L69/00 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 陈卫 |
| 地址： | 430075 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学膜制备领域，具体涉及一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用。该光学薄膜由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜复合而成，所述光学基膜的上表面涂有所述氧气阻隔膜，所述氧气阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜，所述氧气阻隔膜位于所述光学基膜与所述水汽阻隔膜之间。其制备方法包括：S1.疏水改性PVA阻隔液及隔水阻隔液的制备；S2.疏水改性PVA阻隔液的涂布及干燥；S3.隔水阻隔液的涂布及干燥。本发明提供的高阻隔性光学薄膜产品由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜三层复合而成，得到产品具有极低的透氧透水性，可用作量子点膜的外层阻隔膜或用作要求阻隔外界氧气和水汽的食品包装膜等；制备方法简单，生产成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阻隔 光学薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种高阻隔性光学薄膜，其特征在于，由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜复合而成，所述光学基膜的上表面涂有所述氧气阻隔膜，所述氧气阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜，所述氧气阻隔膜位于所述光学基膜与所述水汽阻隔膜之间。
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