[发明专利]作为除草剂的芳氧基嘧啶基醚

摘要

本发明公开的是式1的化合物，包括其所有立体异构体、N‑氧化物和盐，其中A、R1、R2和R3如本公开中所定义。还公开的是含有式1的化合物的组合物和控制不期望的植被的方法，其包括使不期望的植被或其环境与有效量的本发明的化合物或组合物接触。

主权项

1.选自式1的化合物、其N-氧化物和盐，其中A是C2-C8烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C8卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C4-C8环烷氧基烷基、C2-C6氰基烷基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C1-C6硝基烷基、C2-C6烷硫基烷基、C2-C6卤代烷硫基烷基、C3-C8环烷硫基烷基、C2-C6烷基亚磺酰基烷基、C2-C6卤代烷基亚磺酰基烷基、C2-C6烷基磺酰基烷基、C2-C6卤代烷基磺酰基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷基羰基烷基、C2-C6卤代烷基羰基烷基、C2-C6烷氧基羰基烷基、C2-C6卤代烷氧基羰基烷基或C2-C6烷氧基烷基羰基；或G；或被Q取代的C1-C4烷基；R1是卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C4烷氧基或S(O)nR4；R2是卤素、氰基、硝基、CHO、C(=O)NH2、C(=S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C2-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C6 环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6 烷氧基烷氧基、C2-C4烷基羰基氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C2-C4烷硫基烷基、C(=O)N(R5a)(R5b)、C(=NOR6)H、C(=NR7)H或SOnR4；R3是H或F；G是3-至7-元非芳族杂环，其含有选自碳、至多4个选自至多2个O、至多2个S和至多4个N的杂原子的环成员，以及至多3个选自C(=O)、C(=S)和S(=O)a(=NR6)b的环成员，并被至多3个独立地选自卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基或C1-C4卤代烷氧基的取代基取代；Q是任选被至多5个独立地选自R8的取代基取代的苯基环；或者5-或6-元杂芳族环，其含有选自碳原子和至多4个独立地选自至多2个O、至多2个S和至多4个N原子的杂原子的环成员，并任选被至多3个独立地选自在碳原子环成员上的R9a和在氮原子环成员上的R9b的取代基取代；各个R4独立地为C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；各个R5a独立地为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；各个R5b独立地为H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；各个R6独立地为H或C1-C4烷基；各个R7独立地为H、氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷基氨基；各个R8独立地为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基或C1-C4卤代烷氧基；各个R9a独立地为卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基或C1-C4卤代烷氧基；各个R9b独立地为H、C1-C3烷基、C1-C3烷基羰基、C1-C3烷氧基或C1-C3烷氧基羰基；各个n独立地为0、1或2；并且a和b独立地为0、1或2，条件是a和b之和为1或2；并且条件是当R1为Cl；R3为H；且A为-C(=O)CH2CH2CF3时；则R2不为Br或氰基。