[实用新型]一种蒸镀对位系统及蒸镀装置有效
| 申请号： | 201621105664.5 | 申请日： | 2016-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN205999475U | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 田川 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种蒸镀对位系统及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域，为解决待蒸镀基板因静电被吸附在冷却板上而导致蒸镀装置的工作受到不良影响的问题。所述蒸镀对位系统，包括基板载具、掩膜版载具和冷却板，冷却板内设置有分离件；对待蒸镀基板进行蒸镀时，待蒸镀基板安装在基板载具上，掩膜版安装在掩膜版载具上，待蒸镀基板位于冷却板的下方，掩膜版位于待蒸镀基板的下方；分离件可与基板载具一起相对冷却板向下移动，使待蒸镀基板与冷却板分离。分离件与基板载具一起向下移动，分离件向待蒸镀基板施加向下的力，使待蒸镀基板与冷却板分离，防止蒸镀装置的工作受到不良影响。本实用新型提供的蒸镀对位系统应用于蒸镀装置中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对位 系统 装置 | ||
【主权项】：
一种蒸镀对位系统，包括基板载具、掩膜版载具和冷却板，其特征在于，所述冷却板内设置有分离件；对待蒸镀基板进行蒸镀时，所述待蒸镀基板安装在所述基板载具上，掩膜版安装在所述掩膜版载具上，所述待蒸镀基板位于所述冷却板的下方，所述掩膜版位于所述待蒸镀基板的下方；所述分离件可与所述基板载具一起相对所述冷却板向下移动，使所述待蒸镀基板与所述冷却板分离。
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