[实用新型]一种用于铅基快堆或ADS次临界系统中去除210Po的装置有效
| 申请号： | 201620910724.4 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN206541633U | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | 曾献;陈钊;孙树斌;张勇;吕阳;石秀安;林继铭 | 申请（专利权）人： | 中广核研究院有限公司;中国广核集团有限公司;中国广核电力股份有限公司 |
| 主分类号： | G21F9/02 | 分类号： | G21F9/02 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙)44238 | 代理人： | 孙威,潘中毅 |
| 地址： | 518031 广东省深圳市福田区上步中路*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于铅基快堆或ADS次临界系统中去除210Po的装置，包括稀土过滤装置，稀土过滤装置主要由稀土过滤膜和物理过滤膜相结合组成，冷却剂或气体经过稀土过滤膜。实施本实用新型的用于铅基快堆或ADS次临界系统中去除210Po的装置，能够使冷却剂中210Po的浓度低于NRC标准限值以下，解决铅基快堆或ADS次临界系统中关键技术难点，保护人员免遭210Po放射性危害。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 铅基快堆 ads 临界 系统 去除 210 po 装置 | ||
【主权项】：
一种用于铅基快堆或ADS次临界系统中去除210Po的装置，其特征在于，包括稀土过滤装置，所述稀土过滤装置主要由稀土过滤膜和物理过滤膜相结合组成，冷却剂或气体经过稀土过滤膜；所述稀土过滤膜和物理过滤膜相结合使用喷涂、植入、晶体生长、电沉积、填充和/或弥散方式中的至少一种结合方式。
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