[实用新型]一种GaN基异质结绿光激光器件有效

专利信息
申请号: 201620861190.0 申请日: 2016-08-10
公开(公告)号: CN205901069U 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 王辉;王冰;赵洋;李新忠;王静鸽;李贺贺 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙)41120 代理人: 刘兴华
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种GaN基异质结绿光激光器件,包括蓝宝石衬底、蓝宝石衬底上外延生长的n‑GaN电子注入层、n‑GaN电子注入层上外延生长的InGaN/GaN量子阱层、InGaN/GaN量子阱层上的p‑NiO外延层、设置在p‑NiO外延层上的正电极和设置在n‑GaN电子注入层上的负电极;本实用新型采用p‑NiO代替p‑GaN作为空穴注入层和光散射层,制备成p‑NiO/(InGaN/GaN)MQW/n‑GaN异质结绿光激光器件,可以克服p型GaN外延层载流子浓度偏低,器件串联电阻大,工作电压高,器件输出功率低等缺点;同时NiO与GaN有相似的晶格常数及禁带宽度,采用p‑NiO作为p型材料与GaN基材料相匹配可以降低晶格失配,从而提高晶体质量。
搜索关键词: 一种 gan 基异质结绿光 激光 器件
【主权项】:
一种GaN基异质结绿光激光器件,其特征在于:包括蓝宝石衬底(1)、蓝宝石衬底(1)上外延生长的n‑GaN电子注入层(2)、n‑GaN电子注入层(2)上外延生长的InGaN/GaN量子阱层(3)、InGaN/GaN量子阱层(3)上的p‑NiO外延层(4)、设置在p‑NiO外延层(4)上的正电极(5)和设置在n‑GaN电子注入层(2)上的负电极(6)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南科技大学,未经河南科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620861190.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top