[实用新型]光刻系统有效

专利信息
申请号: 201620808522.9 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN205942249U 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 胡煜塨 申请(专利权)人: 胡煜塨
主分类号: G03F7/207 分类号: G03F7/207;G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256 代理人: 王锋
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请公开了一种光刻系统,包括光源、以及沿光路方向依次设置的空间光调制器、第一分光器件、双远心光学系统和光刻平台,所述双远心光学系统由沿光路方向依次设置的镜筒透镜和物镜组成,所述镜筒透镜和物镜之间光线为非平行光,所述物镜与调焦装置连接,该调焦装置带动所述物镜移动以实现焦距调节。本实用新型光刻系统优点至少包括在主光路中无分光器件,成像质量好;检测系统中全部由成像光学元件组成,检测光斑投射在工件表面的尺寸较大,不容易受到灰尘和颗粒影响;检测系统和调焦系统采用机械切换方式,光路结构简单,操作方便。
搜索关键词: 光刻 系统
【主权项】:
一种光刻系统,其特征在于,包括光源、以及沿光路方向依次设置的空间光调制器、第一分光器件、双远心光学系统和光刻平台,所述双远心光学系统由沿光路方向依次设置的镜筒透镜和物镜组成,所述物镜与调焦装置连接,该调焦装置带动所述物镜移动以实现焦距调节。
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