[实用新型]一种基底材料清洗架有效
| 申请号： | 201620776780.3 | 申请日： | 2016-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN205926542U | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 雷岩;谷龙艳;郑直 | 申请（专利权）人： | 许昌学院 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人： | 乔宇 |
| 地址： | 461000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种基底材料清洗架。它由底座和设在底座上的手持柄组成，所述底座上设有用于卡住待清洗的基底材料的开槽，开槽的宽度与基底材料的厚度相匹配，开槽底部均匀分布有排水孔。使用时，将基底材料卡在开槽内，然后通过手柄提起支架，将待清洗基底材料转移至洗液中，即可进行清洗。清洗完毕后洗液可从开槽底部开设的排水孔迅速排出。该清洗架可用于薄膜材料制备过程中金属薄片、普通玻璃片、导电玻璃片等基底材料的清洗。通过在底座上设置开槽，开槽宽度与所使用的基底材料厚度相匹配，使基底材料卡在开槽里面，起到防止基底材料在清洗过程中脱离清洗架的作用。同时底座开槽底部均匀分布的排水孔有利于基底片上液体排出和迅速烘干。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基底 材料 清洗 | ||
【主权项】：
一种基底材料清洗架，其特征在于：它由底座和设在底座上的手持柄组成，所述底座上设有用于卡住待清洗的基底材料的开槽，开槽的宽度与基底材料的厚度相匹配，开槽底部均匀分布有排水孔。
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