[实用新型]一种抛光处理设备有效
| 申请号： | 201620469626.1 | 申请日： | 2016-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN205950488U | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 曾庆煜;林孟平;田宗谦 | 申请（专利权）人： | 深圳市金瑞电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/10 | 分类号： | B24B31/10;B24B1/00;B24B31/12 |
| 代理公司： | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙)44319 | 代理人： | 余薇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华新区观*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种抛光处理设备，该设备包括磁场装置，用于产生一旋转磁场；容纳装置，设置于旋转磁场的磁场范围内，用于提供一容纳空间，承载介质和待抛光元件；其中，容纳装置为立方体型腔体，且在腔体内设置至少一个楔形棱；抛光装置，设置于介质中，用于使抛光装置对介质中的待抛光元件进行抛光处理。通过本实用新型，能够对待抛光物体的表面进行修饰加工，清洗待抛光物体表面的脏污，剔除表面及边缘的毛刺，达到清除脏污的效果，同时增加了待抛光物体表面的凹凸结构，使表面硬度增加，通过设置楔形棱，利于待抛光元件的翻转，使其表面抛光均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种抛光处理设备，其特征在于，包括：磁场装置，产生一旋转磁场；容纳装置，设置于所述旋转磁场的磁场范围内，用于提供一容纳空间，承载介质和待抛光元件；其中，所述容纳装置为立方体型腔体，且在所述腔体内设置至少一个楔形棱；抛光装置，设置于所述介质中。
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