[实用新型]一种用于胶囊抛光机的新型机架有效

专利信息
申请号: 201620426047.9 申请日: 2016-05-11
公开(公告)号: CN205734359U 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 王乐平 申请(专利权)人: 绍兴中亚胶囊有限公司
主分类号: B24B31/02 分类号: B24B31/02;B24B41/02
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 韩洪
地址: 312500 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种用于胶囊抛光机的新型机架,包括底座、支撑座、转动轴、手动盘、滑座部、套体、凹槽、若干齿体和安装座,所述底座上设有支撑座,所述支撑座的上端安装有可转动的转动轴,所述转动轴上设有安装座,所述转动轴的后端设有滑座部,所述滑座部上套设有套体,所述套体的后端设有手动盘,所述套体的圆周面上分布有齿体,所述支撑座上设有与套体相对应的凹槽,所述凹槽内设有与齿体一一对应的齿槽,与现有技术相比,能够调节方便,调节省力,并且可靠性高。
搜索关键词: 一种 用于 胶囊 抛光机 新型 机架
【主权项】:
一种用于胶囊抛光机的新型机架,其特征在于:包括底座(1)、支撑座(2)、手动盘(3)、滑座部(4)、套体(5)、凹槽(6)、若干齿体(7)、安装座(8)和转动轴(12),所述底座(1)上设有支撑座(2),所述支撑座(2)的上端安装有可转动的转动轴(12),所述转动轴(12)上设有安装座(8),所述转动轴(12)的后端设有滑座部(4),所述滑座部(4)上套设有套体(5),所述套体(5)的后端设有手动盘(3),所述套体(5)的圆周面上分布有齿体(7),所述支撑座(2)上设有与套体(5)相对应的凹槽(6),所述凹槽(6)内设有与齿体(7)一一对应的齿槽。
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