[实用新型]掩膜框架有效
申请号: | 201620407306.3 | 申请日: | 2016-05-04 |
公开(公告)号: | CN205662586U | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 乔永康;潘晟恺;徐鹏 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 230011 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种掩膜框架,该掩膜框架包括设置有凹槽的基体以及掩膜固定件,并且掩膜固定件固定于凹槽中,能够使固定于掩膜固定件上的掩膜镀膜张紧布设在掩膜框架上。将掩膜框架设计为可拆卸的基体以及掩膜固定件,在使用后只需打磨用于固定掩膜镀膜的掩膜固定件,不会对基体造成任何的损坏,报废时也只需报废掩膜固定件,从而有效降低了生产中掩膜框架的运用成本。 | ||
搜索关键词: | 框架 | ||
【主权项】:
一种掩膜框架,其特征在于,所述掩膜框架包括基体,所述基体设置有凹槽;所述掩膜框架还包括用于固定掩膜镀膜的掩膜固定件,所述掩膜固定件固定于所述凹槽中,使固定于所述掩膜固定件上的掩膜镀膜张紧布设在所述掩膜框架上。
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