[实用新型]壁画颜料多光谱摄影分析翻拍台有效
申请号: | 201620406846.X | 申请日: | 2016-05-06 |
公开(公告)号: | CN205563041U | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | 柴勃隆;苏伯民;陈港泉;王小伟;李凌志 | 申请(专利权)人: | 敦煌研究院 |
主分类号: | G03B15/06 | 分类号: | G03B15/06;G03B15/07;G03B15/00;G03B17/56 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴开磊 |
地址: | 735000*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种壁画颜料多光谱摄影分析翻拍台,属于摄影器材领域,其包括底座、光源支架、相机支架和避光箱,光源支架与底座连接,相机支架与底座连接,底座设置有载物台,光源支架连接有可见光源和紫外光源,载物台、光源支架和相机支架靠近底座的一端均位于避光箱内,避光箱设置有容纳口,相机支架远离载物台的一端伸出避光箱。本实用新型中通过设置避光箱,能有效避免外界杂散光源辐射对单波段光谱图像获取的干扰,为不同工作条件下创造一个理想的多光谱图形获取暗环境,从而减少误差、加强准确性。光源支架的设置中同时可安装可见和紫外光源,很好的解决了多光谱拍摄中因获取光谱图像不同而需平凡切换可见和紫外光源的问题。 | ||
搜索关键词: | 壁画 颜料 光谱 摄影 分析 翻拍 | ||
【主权项】:
一种壁画颜料多光谱摄影分析翻拍台,其特征在于,包括底座、光源支架、相机支架和避光箱,所述光源支架与所述底座连接,所述相机支架与所述底座连接,所述底座设置有载物台,所述光源支架连接有可见光源和紫外光源,所述载物台、所述光源支架和所述相机支架靠近所述底座的一端均位于所述避光箱内,所述避光箱设置有用于容纳相机镜头的容纳口,所述相机支架远离所述底座的一端伸出所述避光箱。
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