[实用新型]面型精度调整装置和光刻机有效

专利信息
申请号: 201620389415.7 申请日: 2016-04-29
公开(公告)号: CN205827058U 公开(公告)日: 2016-12-21
发明(设计)人: 朱俊;廖飞红 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种面型精度调整装置,设置在框架系统中,所述框架系统包括调整件,所述面型精度调整装置包括分别设置在所述调整件相对两侧的至少一对拉伸机构,所述拉伸机构相对于所述框架系统固定,所述面型精度调整装置在所述调整件两侧施加向外的相反拉力,既能保证两个相互抵消的力不会对所述调整件内部结构产生太大的影响,又能通过拉伸的作用,减少调整件表面的变形;所述面型精度调整装置通过调整自预紧机构的变形量,利用力的作用力及反作用力,以对调整件施加拉力的方式实现调整件基线挠度的可调性,该拉伸方式简单实用,适用于多场合。
搜索关键词: 精度 调整 装置 光刻
【主权项】:
一种面型精度调整装置,设置在框架系统中,所述框架系统包括调整件,其特征在于,所述面型精度调整装置包括分别设置在所述调整件相对两侧的至少一对拉伸机构,所述拉伸机构相对于所述框架系统固定,所述面型精度调整装置在所述调整件两侧施加向外的相反拉力。
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