[实用新型]一种台面型探测器芯片有效
申请号: | 201620349180.9 | 申请日: | 2016-04-22 |
公开(公告)号: | CN205944121U | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 唐琦;王汉华 | 申请(专利权)人: | 武汉光安伦光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人: | 程殿军,张瑾 |
地址: | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种台面型探测器芯片,采用PIN结构,包括一衬底;在衬底上制作的N型InP缓冲层、N型掺杂InP层、InGaAs吸收层、InGaAs渐变层、P型掺杂InP层以及InGaAs欧姆接触层;在PIN结构的P型区域两侧采用离子注入进行隔离形成的高阻区,实现侧向PN结的抑制;在高阻区外侧制作的台面型结构;在台面型结构上采用PECVD生长SiO2和SiNx混合保护层;在欧姆接触层上制作的P电极,在同一平面制作N电极。本实用新型提供的台面型探测器芯片减少了芯片本征电容及相关寄生参数,可以相应扩大探测器芯片的光接收区域的面积,提高与光纤耦合效率,实现了应用中的高灵敏度。同时,避免了传统台面探测器复杂的侧面聚合物钝化工艺,并且实现了更小的暗电流。 | ||
搜索关键词: | 一种 台面 探测器 芯片 | ||
【主权项】:
一种台面型探测器芯片,采用PIN结构,其特征在于,包括:一衬底;在所述衬底上制作的N型InP缓冲层、N型掺杂InP层、u‑InGaAs吸收层、InGaAs渐变层、P型掺杂InP层以及InGaAs欧姆接触层;在所述PIN结构的P型区域两侧采用离子注入进行隔离形成的高阻区,实现侧向PN结的抑制;在所述高阻区外侧制作的台面型结构;生长在所述台面型结构上的SiO2和SiNx混合保护层;以及N电极和在所述欧姆接触层上制作的P电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的