[实用新型]一种台面型探测器芯片有效

专利信息
申请号: 201620349180.9 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN205944121U 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 唐琦;王汉华 申请(专利权)人: 武汉光安伦光电技术有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 代理人: 程殿军,张瑾
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种台面型探测器芯片,采用PIN结构,包括一衬底;在衬底上制作的N型InP缓冲层、N型掺杂InP层、InGaAs吸收层、InGaAs渐变层、P型掺杂InP层以及InGaAs欧姆接触层;在PIN结构的P型区域两侧采用离子注入进行隔离形成的高阻区,实现侧向PN结的抑制;在高阻区外侧制作的台面型结构;在台面型结构上采用PECVD生长SiO2和SiNx混合保护层;在欧姆接触层上制作的P电极,在同一平面制作N电极。本实用新型提供的台面型探测器芯片减少了芯片本征电容及相关寄生参数,可以相应扩大探测器芯片的光接收区域的面积,提高与光纤耦合效率,实现了应用中的高灵敏度。同时,避免了传统台面探测器复杂的侧面聚合物钝化工艺,并且实现了更小的暗电流。
搜索关键词: 一种 台面 探测器 芯片
【主权项】:
一种台面型探测器芯片,采用PIN结构,其特征在于,包括:一衬底;在所述衬底上制作的N型InP缓冲层、N型掺杂InP层、u‑InGaAs吸收层、InGaAs渐变层、P型掺杂InP层以及InGaAs欧姆接触层;在所述PIN结构的P型区域两侧采用离子注入进行隔离形成的高阻区,实现侧向PN结的抑制;在所述高阻区外侧制作的台面型结构;生长在所述台面型结构上的SiO2和SiNx混合保护层;以及N电极和在所述欧姆接触层上制作的P电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光安伦光电技术有限公司,未经武汉光安伦光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620349180.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top