[实用新型]一种太赫兹量子级联激光器增益谱测量器件有效

专利信息
申请号: 201620346187.5 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN205583368U 公开(公告)日: 2016-09-14
发明(设计)人: 徐天鸿;曹俊诚 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343;H01S5/22;H01S5/06;H01S5/065
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种太赫兹量子级联激光器增益谱测量器件,所述器件包括:半绝缘GaAs衬底;位于该衬底上表面的GaAs缓冲层;位于该缓冲层表面的n型重掺杂下接触层;位于该下接触层表面的有源区;位于有源区表面的n型重掺杂上接触层;位于n型重掺杂上接触层表面且各自分隔的第一、第二、第三上电极金属层,第一上电极金属层与第二上电极金属层之间设有凹至GaAs缓冲层的深隔离槽,第三上电极金属层为退火后可形成高波导损耗的上电极金属层;以及位于n型重掺杂下接触层表面及有源区两侧的下电极金属层。通过本实用新型提供的一种太赫兹量子级联激光器增益谱测量器件,解决了现有技术中无法测得THz QCL在可工作电流密度范围内完整的增益谱变化情况的问题。
搜索关键词: 一种 赫兹 量子 级联 激光器 增益 测量 器件
【主权项】:
一种太赫兹量子级联激光器增益谱测量器件,其特征在于,所述增益谱测量器件包括:半绝缘GaAs衬底;位于所述半绝缘GaAs衬底上表面的GaAs缓冲层;位于所述GaAs缓冲层表面的n型重掺杂下接触层;位于所述n型重掺杂下接触层表面的有源区;位于所述有源区表面的n型重掺杂上接触层;位于所述n型重掺杂上接触层表面且各自分隔的第一、第二、第三上电极金属层,所述第一上电极金属层与所述第二上电极金属层之间设有凹至GaAs缓冲层的深隔离槽,所述第三上电极金属层为退火后可形成高波导损耗的上电极金属层;以及位于所述n型重掺杂下接触层表面及有源区两侧的下电极金属层。
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