[实用新型]基材蚀刻处理设备

摘要

一种基材蚀刻处理设备包含有一个以上的二流体喷蚀装置，以及一个以上的真空吸引装置。二流体喷蚀装置可接受外部提供的工作药水及工作气体，真空吸引装置配置于二流体喷蚀装置的一侧。二流体喷蚀装置与真空吸引装置设置于基材的一侧，二流体喷蚀装置能混合工作药水及工作气体，生成气液混合喷蚀雾，并喷洒到基材的表面，真空吸引装置用以吸取基材上残留的工作药水。本实用新型能解决水池效应的问题，并能提高蚀刻因数。

主权项

一种基材蚀刻处理设备，其特征在于，包括有：一个以上的二流体喷蚀装置，能接受外部提供的一工作药水及一工作气体；以及一个以上的真空吸引装置，配置于所述二流体喷蚀装置的一侧；其中，所述二流体喷蚀装置与所述真空吸引装置设置于一基材的一侧，所述二流体喷蚀装置能混合所述工作药水及所述工作气体，生成一气液混合喷蚀雾，并喷洒到所述基材的表面，所述真空吸引装置用以吸取所述基材上残留的所述工作药水。