[实用新型]一种直下式背光源光学模拟装置及系统有效
申请号: | 201620183553.X | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN205383453U | 公开(公告)日: | 2016-07-13 |
发明(设计)人: | 张伟;张宇;周昊;廖燕平;胡巍浩;池海;钟维 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | F21K9/23 | 分类号: | F21K9/23;F21V7/00;F21V17/16;F21V14/02;F21V13/10;F21V1/08;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李峥;杨晓光 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种直下式背光源光学模拟装置及系统,该装置包括扩散板、扩散板支撑板、MF装置以及机台,机台周边形成有侧壁和扩散板支撑架,机台包括滑道、反射片以及多条平行设置的第一导轨,其中滑道形成在机台相对的两个侧壁上,第一导轨的两端分别架设在滑道上,反射片位于所述第一导轨靠近所述机台的一侧,第一导轨上设有多个能够沿第一导轨的长度方向滑动的LED卡具,扩散板支撑板的一端与扩散板支撑架活动连接并且扩散板支撑板的另一端支撑扩散板,MF装置包括MF固定装置、MF反射板以及MF角度调节装置,MF反射板通过MF角度调节装置与MF固定装置结合在一起,MF装置通过其MF固定装置固定在机台的侧壁上。 | ||
搜索关键词: | 一种 直下式 背光源 光学 模拟 装置 系统 | ||
【主权项】:
一种直下式背光源光学模拟装置,其特征在于,所述直下式背光源光学模拟装置包括扩散板、扩散板支撑板、MF装置以及机台,所述机台周边形成有侧壁和扩散板支撑架,所述机台包括滑道、反射片以及多条平行设置的第一导轨,其中所述滑道形成在所述机台相对的两个侧壁上,所述第一导轨的两端分别架设在所述滑道上,所述反射片位于所述第一导轨靠近所述机台的一侧,所述第一导轨上设有多个能够沿所述第一导轨的长度方向滑动的LED卡具,所述扩散板支撑板的一端与所述扩散板支撑架活动连接并且所述扩散板支撑板的另一端支撑所述扩散板,所述MF装置包括MF固定装置、MF反射板以及MF角度调节装置,所述MF反射板通过所述MF角度调节装置与所述MF固定装置结合在一起,所述MF装置通过所述MF固定装置固定在所述机台的侧壁上。
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