[实用新型]集成式真空发生装置有效

专利信息
申请号: 201620142047.6 申请日: 2016-02-25
公开(公告)号: CN205478585U 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 夏廷涛;刘讨中 申请(专利权)人: 重庆恒拓高自动化技术有限公司
主分类号: F04F5/04 分类号: F04F5/04;F04F5/52
代理公司: 北京捷诚信通专利事务所(普通合伙) 11221 代理人: 王卫东
地址: 404100 重庆市永川区星光大道*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 实用新型公开了一种集成式真空发生装置,包括壳体,所述壳体上设有进气口、排气口和真空口,所述进气口和所述排气口之间形成射流通道,所述真空口内设有过滤装置,还包括通过总线插口与所述壳体连接的PLC控制系统,所述过滤装置将所述壳体分隔成负压腔和正压排水腔,所述射流通道置于所述负压腔内,所述射流通道上设有真空供给阀、真空破坏阀和排水控制阀,所述正压排水腔内设有液位传感器和排水阀,所述排水阀与所述过滤装置连接。本实用新型,通过排水控制阀、排水阀及液位传感器的控制,能实现在真空环境下自动排水,大大提高生产效率,自动化程度高,避免由于没有及时排出过多的水分而被烧坏,提高了使用安全性。
搜索关键词: 集成 真空 发生 装置
【主权项】:
集成式真空发生装置,包括壳体,所述壳体上设有进气口、排气口和真空口,所述进气口和所述排气口之间形成射流通道,所述真空口内设有过滤装置,其特征在于,还包括通过总线插口与所述壳体连接的PLC控制系统,所述过滤装置将所述壳体分隔成负压腔和正压排水腔,所述射流通道置于所述负压腔内,所述射流通道上设有真空供给阀、真空破坏阀和排水控制阀,所述正压排水腔内设有液位传感器和排水阀,所述排水阀与所述过滤装置连接。
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